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Applikationsschrift
151 Kupferdicke, flankengekoppelte Leitungen und charakteristische Impedanz |
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Hintergrundinformation Leiterplattenhersteller erhalten mitunter Designs, welche mit den geforderten Spezifikationen als unrealisierbar erscheinen. Es kann ein einfach ein Fehler des Absenders vorliegen, oder der Designer hat die Beschränkungen des Fertigungsprozesses nicht berücksichtig.
Die Lösung ? |
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Edge Coupled Differential Pair Die obige
Struktur beruht auf der Kopplung zwischen zwei Leiterbahnen und weist im
Gegensatz zu üblichen Strukturen keine Bezugslage auf. Dies beschränkt die
verfügbaren Optionen, wenn die Struktur nicht die geforderten
Spezifikationen erfüllt. |
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Hier ist das Problem und ein Lösungsvorschlag... |
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Die Boardspezifikation
verlangte ein differentielles Paar mit 100 Ohm, die geforderten
Leiterbahnabmessungen ergaben jedoch eine Impedanz von 135 Ohm. Die
Herausforderung lag nun darin, die geforderte Impedanz zu erzielen, ohne
größere Änderungen in der Spezifikation vorzunehmen. Dieses Edge Coupled Differential Pair besitzt keine Masselage und eine Reduzierung der Leiterbreite (gegen 3 mil) führt zu Problemen beim Yield. Zu Beginn versuchten wir es mit einer Erhöhung der Leiterbreite bei gleich bleibender Separation. Dies ergab nur geringe Änderungen der Impedanz, so dass weitere Möglichkeiten untersucht wurden. Ein zweiter Ansatz beruhte auf einer Erhöhung der Leiterbreite bei gleichzeitiger Reduzierung der Separation. Um Routing-Probleme zu vermeiden, haben wir das Si6000b Tabellenblatt mit einer Spalte für konstanten Abstand zwischen Mitte-Mitte der beiden Leiterbahnen versehen. Jede Breitenerhöhung führt somit automatisch zu einer Reduktion der Separation. Obwohl mit diesem Ansatz bessere Ergebnisse erzielt wurden, konnte dennoch keine endgültige Lösung gefunden werden. |
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Ein angepasstes Si6000 Tabellenblatt ermöglicht die Änderung der Separation bei konstantem Abstand zwischen Leitermitten. Dadurch kann die Arbeitsvorbereitung die Leiterbreite und Separation ändern, ohne das Layout zu modifizieren.
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Durch die Untersuchung der Struktur war offensichtlich, dass der Hauptanteil des Feldes zwischen den Leiterbahnen liegt und daher eine Erhöhung der Kupferdicke einen Einfluss haben sollte. Wie groß nun dieser Einfluss ist, kann mit der Si6000b untersucht werden. Die Grafik unten zeigt zwei Kurven für Zo bei Erhöhung der Leiterbreite und konstantem Leiter-Mittenabstand. Die gelbe Kurve zeigt, dass die Zielimpedanz nur mit einer Separation von 3 mil (~75µm) erreicht werden kann, während die untere Kurve zeigt, das bei einer Aufkupferung auf 1.5 Unzen die Impedanz bereits bei einer Separation von 4 mil erzielt werden kann - was eine beträchtliche Vereinfachung in der Fertigung bedeutet. |
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Modifizierung des Designs. Durch die Grafikdarstellung der Si6000b können aussagekräftige Daten zwischen Leiterplattenhersteller und Designer ausgetauscht werden, um Probleme in der Fertigung zu vermeiden. |
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Sie Fragen oder Anregungen?
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